近日，我院俞建峰教授团队在中科院一区Top期刊Chemical Engineering Journal上发表了一篇题目为“Regulation of velocity zoning behaviour and hydraulic jump of impinging jet flow on a spinning disk reactor”的科研论文。转盘反应器作为一种典型的过程强化设备，可应用于纳米粒子合成、光催化、聚合、CO₂捕集等领域，其性能在很多场合中主要取决于反应器表面高剪切薄膜流的流动行为，可以提供快速微观混合环境，强化热质传递。因此，俞建峰教授团队对薄膜流流动行为与调控机制开展了研究。

该论文采用激光多普勒测速结合计算流体动力学模拟进一步明确了流动的三分区行为和水跃发生条件，通过局部埃克曼数可直接预测同步区范围和水跃发生半径，实现了薄膜流形态和水跃特征参数的准确预测与调控，这一研究对于新型转盘反应器的设计与优化具有指导意义。

论文作者（第一、通信作者）为我校塞班岛官方网站王东祥副教授，该研究得到了国家自然科学基金青年基金（项目编号：No. 51606086）和中国博士后科学基金（项目编号：No. 2017M621624）的支持。

图1 转盘反应器表面薄膜流

图2 同步半径、水跃半径与局部埃克曼数